发布日期：2011-08-22
 
项目单位：清华大学
 
招标代理机构：清华大学
 
清设报第201175号
清华大学拟对购置脉冲激光沉积设备项目进行招标，欢迎具有相应资质的单位报名参与投标。项目情况及相关要求如下：
一、项目简介
清华大学材料系购置脉冲激光沉积设备用于“863”重点研究项目。
二、    招标内容
脉冲激光沉积设备（系统）一套，主要构成：真空系统（包括真空室、真空泵、真空监测和控制、气体流量控制），脉冲激光系统（包括脉冲激光发生器、激光扫描窗口），薄膜沉积系统（包括基片台、基片加热、坩埚或靶盘、Load Lock装样-送样系统），高压高能电子衍射仪（RHEED），全套自动控制系统和软件。
1、主要技术要求：
1)    ★要求采用进口设备，供应商为国外厂商。
2)    ★主真空室腔体直径大于18英寸，本底真空优于5×0-8Pa。
3)    ★主真空室抽气系统前级泵采用无油干泵，主泵至少采用普发（Pfeiffer）分子泵1套（抽速大于等于400l/s）。
4)    ★基片台温度≥850℃，在一个大气压的氧气环境中能加热到≥850℃，基片加热器在无水冷的条件下可正常工作，且不挥发杂质。
5)    ★基片与靶之间方位采用靶在下方，基片在上方；
6)    ★薄膜沉积均匀区：2英寸；沉积区薄膜均匀度，±3%。
7)    ★激光器：Coherent 公司COMPexPro 201。
8)    ★高压高能电子衍射仪（RHEED）：采用STAIB 公司（STAIB Instrument）的30 keV产品，可做衍射、震荡曲线的分析。
9)    ★Load Lock System一套（装样-送样系统一套），采用transferengineering公司（Transfer Engineering and Manufacturing, Inc）的，本底真空1×10-5Pa，带相应的MKS真空计，所有泵为无油泵。同一Load Lock系统既可以传递靶又可以传递基片，可两者间切换操作。

三、资格预审要求
1、独立法人资格，投标生产企业注册资金证明，有针对本项目的法人代表授权委托书（原件）；
2、投标单位营业执照（复印件，加盖公章）；
3、年度销售业绩（提供财务审计报告复印件，加盖公章）；
4、不同时为制造商的投标商应提供对此次招标项目的制造商授权书（原件）。
5、企业资质证明、质量体系认证、及其它相关材料（复印件，加盖公章）。
 报名时需提交以上资料，同时附上准备投标产品的品牌、型号以及该产品与本招标公告所开列的主要技术要求相对应的指标参数或文字表述。招标单位根据以上证明资料进行资格预审，招标人将从资格预审通过者中遴选邀请对象，未被邀请者恕不另行通知。

四、报名时间与地点
报名时间：2011年8月19日－2011年8月26日
（每天上午8:30-11:30，下午1:30-4:30，节假日休息）
报名地点：清华大学实验室与设备处9号楼203室

五、联系方式
联 系 人：王老师，刘老师     联系电话：010－62785713，62791150
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